LED面板生产的基板清洗、光刻、蚀刻、显影工序,对超纯水水质要求十分严苛。水中残留的硅、钠、微量有机物及颗粒物,极易引发面板光点异常、线路缺陷,直接影响产品良率。伴随LED面板产线向规模化、大产能方向发展,大流量、低运维、高稳定性的EDI膜堆,成为超纯水系统的核心关键设备。威立雅E-Cell MK-9、MK-7大容量EDI膜堆针对光电行业工况优化,在众多LED面板超纯水项目中得到落地应用。
LED面板行业经典超纯水工艺流程为:原水预处理→两级反渗透→EDI深度脱盐→UV-TOC降解→抛光处理→终端过滤输送至生产用水点。两级反渗透可以去除水中大部分盐类、胶体,但产水中依旧残留二氧化硅、钠离子等微量有害杂质,需要EDI模块做深度提纯。传统混床设备需要频繁酸碱再生,药剂消耗高、废液处理负担重,难以适配工厂不间断连续生产。EDI电去离子技术无需酸碱再生,能够持续产出高纯度超纯水,更契合显示制造行业的生产需求。

威立雅E-Cell MK-9大容量EDI膜堆额定产水8m³/h,流量区间4.2-10.0m³/h,最高回收率可达97%,适合大型LED面板项目;同系列MK-7流量规格偏小,适配中等规模产线。两款产品设计逻辑一致,融合离子交换树脂与离子交换膜技术,依靠直流电场实现离子迁移和树脂自再生,无需盐水注入、无需浓水循环,简化管路与自控设计,降低工程建设投入。
水质性能方面,MK-9产水电阻率≥16MΩ・cm,钠脱除率≥99.9%,二氧化硅脱除率最高99%,有效去除危害面板制程的硅、钠等杂质,为后端抛光单元提供优质进水。模块支持逆流运行,面对进水硬度偏高的工况,可延缓结垢问题,减少化学清洗频次,降低停机维护时间,对国内复杂原水水质拥有良好适配能力。
面板工厂选型EDI,设备长期可靠性至关重要。MK-9/MK-7采用防泄漏结构,提供3年按比例质保,具备相关认证,经过大量光电工业项目验证。设备运行能耗低,高回收率实现水资源节约,契合制造企业降本节水目标。实际使用中EDI进水优先采用RO产水,严格管控TOC、总氯、铁锰等指标,前端配置保安过滤器,规避颗粒物造成膜堆不可逆污染。
威立雅MK-9、MK-7大容量EDI膜堆兼顾大流量、水质稳定、运维简单、节水降耗多重优势,解决规模化LED面板产线超纯水制备痛点,是显示行业超纯水项目优选的EDI设备方案。如果您想了解更多威立雅EDI模块MK-9等水处理耗材的相关资讯,欢迎随时在本网站留言或来电咨询!感谢您认真阅读!
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